科学资讯 | ASML称中国早已研发国产光刻机:中科院成功研发DUV光源技术 能生产3nm

发布时间:2025-06-11 10:47:28阅读:0
快科技6月7日消息,据国外媒体报道称,近日ASML CEO接受媒体采访时表示,中国早已研发国产光刻设备。在这位CEO看来,尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走,但美国出台的打压措施只会适得其反,让中国“更努力取得成功”。他还称,与其打压中国等竞争对手,不如将注意力放在创新上。

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